經(jīng)過(guò)國(guó)內(nèi)廠家多年的追趕，我國(guó)集成電路關(guān)鍵裝備已形成一定的支撐能力，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備已完成從“從0到1”的突破。

　　由于供不應(yīng)求，自2020年底以來(lái)，半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)能持續(xù)緊張，導(dǎo)致制造、封測(cè)價(jià)格上漲，芯片交付周期延長(zhǎng)。在產(chǎn)能短缺的背景下，半導(dǎo)體行業(yè)預(yù)計(jì)將大規(guī)模擴(kuò)大生產(chǎn)，推動(dòng)對(duì)半導(dǎo)體制造設(shè)備的強(qiáng)勁需求。另一方面，半導(dǎo)體設(shè)備的進(jìn)口一直受到限制，因此國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備的替代前景非常廣闊。

　　超純水設(shè)備成為半導(dǎo)體行業(yè)重要推動(dòng)力

　　半導(dǎo)體的制造是在一級(jí)潔凈度(每立方英尺的空氣中只能有一粒直徑小于0.3微米的灰塵)的環(huán)境中進(jìn)行的，這表明了半導(dǎo)體元件在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)潔凈度的要求有多嚴(yán)格。在芯片生產(chǎn)過(guò)程中，影響其品質(zhì)的不止有空氣，還有水質(zhì)。因此，在大力發(fā)展半導(dǎo)體的同時(shí)，我國(guó)對(duì)其水質(zhì)也提出了更高的要求。可以說(shuō)，超純水設(shè)備已成為半導(dǎo)體行業(yè)的重要驅(qū)動(dòng)力。

　　超純水的生產(chǎn)流程是怎樣的?

　　自來(lái)水進(jìn)入原水箱，通過(guò)原水泵增壓，經(jīng)砂濾器、炭濾器、阻垢劑加藥、保安過(guò)濾器，到達(dá)反滲透單元，經(jīng)兩級(jí)反滲透過(guò)濾進(jìn)入EDI單元，拋光混床單元，EDI出水進(jìn)入純水水箱，此時(shí)水質(zhì)的電阻率是15兆歐，經(jīng)過(guò)拋光混床后，產(chǎn)水電阻率達(dá)到18兆歐，但是不進(jìn)入水箱，直接進(jìn)入用水點(diǎn)。因?yàn)樗渲腥舫霈F(xiàn)產(chǎn)水滯留，會(huì)影響產(chǎn)水水質(zhì)。純水供水設(shè)計(jì)為循環(huán)方式，經(jīng)純水供水泵增壓，通過(guò)紫外線消毒器、拋光混床接入純水供水管，到達(dá)使用點(diǎn)。

　　超純水設(shè)備作為半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)的重要基石，萊特萊德超純水設(shè)備改進(jìn)了傳統(tǒng)工藝階段供水的缺點(diǎn)，配備了專(zhuān)業(yè)的濃水置換技術(shù)，防止膜系統(tǒng)受到微生物污染。通過(guò)完善的技術(shù)，提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行成本。能有效去除水中的雜質(zhì)、重金屬離子、細(xì)菌等有害物質(zhì)，實(shí)現(xiàn)超純水的大量連續(xù)供應(yīng)?？蓾M足芯片生產(chǎn)用水的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，降低企業(yè)生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)和成本。