芯片是一個(gè)扁平的硅片，上面嵌入了集成電路，甚至包括晶體管。硅晶片上產(chǎn)生了微小開關(guān)的圖案，通過嵌入材料，形成相互連接形狀的深而完整的網(wǎng)格。眾所周知，芯片生產(chǎn)是難度很大的，今天我們來討論一下芯片在生產(chǎn)制造的過程中的重要影響因素。

　　芯片生產(chǎn)的過程中有一個(gè)非常重要的步驟，需要利用純水沖洗，而這個(gè)純水的來源就是凈化而來的，因此需要消耗大量的水資源。而越是工藝制程好的芯片，所需消耗的水資源就越多。2nm的芯片工廠，每天所要消耗的水資源將達(dá)到9.8萬噸。

　　對(duì)于這個(gè)沖洗的環(huán)節(jié)，我們不得不提到它的用水標(biāo)準(zhǔn)。普通的自來水在芯片沖洗過程中應(yīng)用是絕對(duì)不可以的，我們需要用到的是超純水。超純水是指電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二噁英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

　　這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電，不會(huì)影響電子產(chǎn)品的性能，同時(shí)水中幾乎不含金屬離子，不會(huì)對(duì)復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。用超純水生產(chǎn)芯片可以提高芯片的良品率。

　　由于芯片生產(chǎn)需要用到大量的超純水，超純水的制備又成為了關(guān)鍵問題。超純水設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備高質(zhì)量的超純水，不會(huì)因樹脂再生而停止運(yùn)行。設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上確保了設(shè)備的出水質(zhì)量。同時(shí)，EDI處理裝置廢水產(chǎn)量少，不會(huì)污染環(huán)境，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益，具有廣闊的發(fā)展前景。