如今EDI超純水設(shè)備已廣泛應(yīng)用到生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)。芯片行業(yè)在我國(guó)才剛剛起步，在未來(lái)有著廣闊的發(fā)展空間，接下來(lái)的10年將是我國(guó)芯片行業(yè)發(fā)展的機(jī)遇期，而應(yīng)用優(yōu)質(zhì)超純水設(shè)備才能夠保證芯片行業(yè)的水質(zhì)符合標(biāo)準(zhǔn)，增加元件的成品率。

　　超純水在生產(chǎn)電子芯片的過(guò)程中必不可少。超純水設(shè)備是芯片生產(chǎn)中的重要一環(huán)，隨著芯片的精密度越來(lái)越高，生產(chǎn)環(huán)節(jié)對(duì)于水質(zhì)的要求也越來(lái)越高，為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路除高純?cè)牧稀⒏呒儦怏w、高純化學(xué)藥品外，超純水也是其中重要的因素之一。

　　由于現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的發(fā)展，對(duì)水質(zhì)要求的日益嚴(yán)格，純水制備技術(shù)相應(yīng)地迅速發(fā)展起來(lái)，成為工業(yè)用水中應(yīng)用廣泛的一個(gè)新門(mén)類(lèi)。水質(zhì)指標(biāo)接近理論純水稱(chēng)為“超純水”，集中反映在電阻率、微粒、硅、溶解氣體、有機(jī)物、微生物等六個(gè)方面，其中電阻率達(dá)18MΩ·cm (25℃)，即水的純度為99.99999%，微量電解質(zhì)含量10～20μg/L，粒徑為0.2μm-1μm的微粒，含量小于130個(gè)/mL，活的細(xì)菌，微生物0.01個(gè)/mL左右，各項(xiàng)水質(zhì)指標(biāo)基本達(dá)到電子級(jí)EW-1級(jí)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

　　芯片行業(yè)制備超純水的傳統(tǒng)工藝是采用陰陽(yáng)樹(shù)脂交換設(shè)備，該工藝的缺點(diǎn)在于樹(shù)脂在使用一段時(shí)間以后要經(jīng)常再生。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，常采用反滲透工藝，或是采用反滲透后再經(jīng)過(guò)離子交換混床、拋光混床或EDI超純水設(shè)備工藝來(lái)制取超純水，保證出水水質(zhì)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿(mǎn)足芯片行業(yè)用水需求。

　　EDI超純水設(shè)備還具有占地面積小，總投資少，運(yùn)行環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。隨著技術(shù)的不斷提高，其應(yīng)用領(lǐng)域也越來(lái)越多，在電廠化學(xué)水處理方面、食品、飲料、飲用水的制備、海水苦咸水的淡化等方面都有著重要的應(yīng)用。